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グループ企業間で加工設備を共有可能とする自動加工工程設計支援システムの開発

3次元で加工工程設計を行うことにより加工時間の正確な見積もりを可能とする加工工程設計支援システムを開発することで「短納期化」を実現する。また、このシステムと連携する生産管理支援システムを開発し、各社毎の生産管理を行うと同時に、各社の加工設備の稼働状況をグループ企業間の共有情報として共有設備管理サーバー(社団法人日本金型工業会が管理)上で一元管理することにより、グループ企業間で加工設備の共有が可能となり「低コスト化」が実現できる。
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基盤技術分野 :

精密加工

事業化状況 :
研究中止または停滞中

耐震補強を主目的とした多軸織物を使用した高速成形技術の開発

耐震補強用高機能繊維に於いて高強度で寸法安定性に優れた多軸の織物が求められている。また作業効率を図る為、樹脂の硬化時間短縮・制御が課題となっている。斜め方向の強度をアップした高機能多軸織物の開発と短時間で硬化する樹脂の開発及び成形条件の確立を目指す
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基盤技術分野 :

複合・新機能材料

事業化状況 :
研究中止または停滞中

高炭素クロム軸受鋼の冷間鍛造技術開発

コスト削減を目的に、高炭素クロム軸受鋼部品を冷間鍛造で製作する技術を開発する。この材質は、材質特有の硬さから冷間鍛造は難易度が極めて高く、当社の既存技術は切削加工により製品化している。今回、静岡大学工学部教授の指導や金型メーカーの協力を受けて、三位一体となり、当社の得意とする冷間鍛造技術を最大限に生かし、高炭素クロム軸受鋼のニアネットシェイプ冷間鍛造品を作り、低価格製品を実現させる
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基盤技術分野 :

精密加工

事業化状況 :
研究中止または停滞中

茶生葉や蒸葉の状態を数値化し、高品質な煎茶製造のための蒸熱を適正に制御する装置の開発

煎茶製造では、人が制御している蒸熱工程において、科学的な管理で高品質化とコスト低減が求められている。熟練を要する匠の技を数値化する装置を開発することで、原料生葉に応じた客観的な管理で、高品質な煎茶を低コストに製造することを目的とする。研究開発は、生葉の硬軟度と、蒸熱による茶葉の色変化等を測定・数値化する装置の開発を行い、その数値に基づき、蒸熱条件の設定と、修正を行う蒸熱工程管理技術を確立する
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基盤技術分野 :

情報処理

事業化状況 :
研究中止または停滞中

組込ソフトウエアによる燃焼の省エネルギー化技術の研究開発

ガス燃焼機器においては、省エネルギー・省資源・空気汚染等の課題がある。そこで、従来の燃焼方式のブンゼンバーナーを主体とした燃焼技術とは異なるプリミックス型のターボジェット燃焼・伝熱方式を実用化するため、新方式に適したシステム設計と組込みソフトウエア設計に関する研究開発を行う
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基盤技術分野 :

情報処理

事業化状況 :
研究中止または停滞中

飼料の価値向上を目指した前処理・減圧発酵蒸留技術の開発

減圧状態でエタノール発酵することで、通常の発酵より発酵効率がよく、発酵残渣のタンパク質の濃縮が進み、飼料としての価値が高まることが実証されており、さらなる発酵効率のアップによる残渣の飼料価値の向上、未利用バイオマスの検証、前処理・減圧発酵装置のスケールアップを検証する。さらにエネルギー収支およびコスト評価を行うことにより、早期事業化を目指す
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基盤技術分野 :

バイオ

事業化状況 :
研究中止または停滞中

食品廃棄物からの高活性・高安定性厨房排水処理用バイオ製剤の効率的生産プロセスの開発

外食産業等の厨房排水から油を分離させる阻集器には、悪臭や害虫の発生、清掃の労苦、産廃コストのアップ等の問題があり、最近開発されたバイオフィルムによる阻集器浄化技術が期待されている。本事業では、この浄化システムに用いるバイオ製剤(油を分解する微生物と酵素)を未利用食品廃棄物を原料として高効率・低コストに生産する技術を開発する。これにより厨房排水処理問題の解決とバイオ製剤の飛躍的な普及が期待できる
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基盤技術分野 :

バイオ

事業化状況 :
研究中止または停滞中

インタラクティブなロボット操作のための3D動画処理組込みソフトウェアの開発

従来よりロボットを用いた遠隔操作では2Dモニタが利用されているが、奥行きをもつ複雑な形状には対応できず、リアリティのあるシステムが求められている。本事業では3Dカメラと3D表示装置を用いて観察者の空間把握を可能にし、インタラクティブなロボット操作を実現することで操作精度と速度を30%向上させ負担を軽減する。その実現にはリアルタイム動画処理が必要なため、超高速な組込みソフトウェアとシステムを開発する
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基盤技術分野 :

情報処理

事業化状況 :
研究中止または停滞中

常温電解法による均一薄膜黒色めっきの研究開発

現状の薄膜黒色クロムめっきは、0℃程度の低温浴で電解を行うため、めっき膜形成速度が遅く、長い処理時間が必要である。また、複雑形状部品などへのめっき処理については、膜厚均一性が不充分で改善が望まれる。基礎研究の結果、有害物質6価クロムを使用しないめっき液で、20~40℃の浴温範囲の常温電解でのめっき膜形成技術を実験室レベルで確立した。本事業は、実用化に向け残された課題の解決を図るものである
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基盤技術分野 :

表面処理

事業化状況 :
研究中止または停滞中

難加工パワーデバイス用SiCウエハの平坦化及び低コスト加工プロセス開発

自動車産業ではハイブリッドおよび電気自動車へのSICパワーデバイスの搭載のニーズが高まっているが、基板の高い価格と欠陥密度がこれを阻害している。本提案では基板コストを押し上げるCMPなしで、加工に伴う欠陥発生を抑えた研削加工技術の開発を目標とする。SICの切断ー機械研磨の各工程における欠陥発生の閾値を見出し、欠陥発生を抑制した工程確立と同時に高硬度SICの平坦表面を得る機械研磨法を開発する。
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基盤技術分野 :

精密加工

事業化状況 :
研究中止または停滞中

※データ更新中のため、一部プロジェクトは掲載されていない場合があります。