研究開発された技術紹介

半導体・液晶製造装置の長寿命化及び維持管理の軽減を図るため、構成部材の耐久性向上が求められている。ドライエッチング装置やCVD装置においては、耐プラズマ性、耐腐食性に優れた構成部材の開発が重要課題である。本研究では、高周波プラズマ複合溶射法により、耐プラズマ性、耐ガス性に優れた機能性(導電性、誘電性)セラミックス溶射膜を開発し、ドライエッチング装置用部材への適用を目指す

高周波プラズマ複合溶射法により耐プラズマ性を有する導電性イットリア溶射膜を開発
・溶射プロセス中に蒸着機能を組込んだ高周波プラズマ複合溶射装置の開発
・耐プラズマ性に優れた導電性イットリア溶射膜の開発
・ドライエッチング装置用導電性部材の試作
　→95 %以上の密度、102Ω・cm 以下の体積抵抗率、耐プラズマ性：単結晶Si の5 倍以上
(新技術)
＜高周波プラズマ複合溶射により蒸気状態の金属を混入させたセラミックスバルク材料＞
特徴
・導電性材料が均一に存在
・セラミックスの特性維持→耐プラズマ性向上
・バルク材での製造、利用→剥離による欠陥を防止

・複合プロセスを実現する高周波プラズマ複合溶射装置を完成
-高周波プラズマ溶射に蒸着機構を組み込んだ複合溶射プロセスを開発し、それを実現する装置を開発-金属バルク材のプラズマ内への供給により、プラズマフレーム内に金属蒸気帯を形成
-溶射粒子に金属蒸気を付着させることで、機能性溶射膜の形成を実現・機能性セラミックス溶射材料を試作
-高密度Al2O3溶射材、高密度Y2O3溶射材、および蒸着により金属成分を添加した導電性Y2O3溶射材の試作に成功
-内径8インチ、厚さ3mm、密度97%以上のリング状セラミックス溶射材を試作
-導電性セラミックス溶射材において、密度95%以上、積抵抗率102Ω･cm以下、優れた耐プラズマ性を実現

・雑誌：山陰経済ウィークリー(H24.8.21)、マテリアルインテグレーションVol.25(2012)
・出展：プラズマ技術講演会(H24.8)、ネプコンジャパン2013(H25.1)

耐プラズマ性、耐ガス性に優れた機能性(導電性、誘電性)セラミックス溶射膜の製造を可能とする装置を提供することができる。

装置開発、営業展開を見極めながら、装置の改良改善に取り組んでいる。

新素材・新方式・新製法等の実現
→導電性イットリア系溶射膜において、密度95%以上、体積抵抗率102Ωcm以下、優れた耐プラズマ性を実現

量産着手に向け、補完研究を継続
・導電性リング作製に向けて、金属材料添加技術の改良等の補完研究を実施
・大口径部材の製造技術、およびその量産技術の検証を実施
・開発技術を元に、ドライエッチング装置用消耗部材をターゲットとした製造販売