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地方独立行政法人京都市産業技術研究所

研究等実施機関情報

研究等実施機関名 地方独立行政法人京都市産業技術研究所(法人番号:8130005013885)
所在地 〒600-8815 京都府京都市下京区中堂寺粟田町91
ホームページ http://tc-kyoto.or.jp
備考 お問い合わせフォーム
(企業様名、お問い合わせ内容に研究戦略担当宛を記載ください)
https://tc-kyoto.or.jp/form/?sendto=consultation

相談対応窓口

担当部署名 経営企画室 研究戦略担当
TEL 075-326-6100

支援実績

支援実績:
7 件
事業化実績:
4 件

充電にともなう材料の膨張を抑制したリチウムイオン電池向けシリコン系高容量負極材の実用化

CONNEXXSYSTEMS社が開発したリチウム二次電池向けシリコン系負極材は、現行負極材の3倍以上の高容量を有するが、充電に伴い材料が膨張するというシリコン系負極材特有の問題が残っており、電池設計が難しいため材料膨張を抑えたいという川下企業のニーズがある。本提案では、この負極材をさらに改良し、充放電に伴う材料の膨張を電極レベルで180%以内に抑制する革新負極材の開発を行う
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基盤技術分野 :

複合・新機能材料

事業化状況 :
事業化に成功し継続的な取引が続いている

京都府

黄桜株式会社

世界市場を開拓するSake・大吟醸生産システムの革新

中小醸造事業者のニーズにより先端バイオ計測技術を反映した、発酵工程の高度化に資する低コスト分析技術を開発する。従来分析不可能だった標的成分に対し、高効率化学修飾を実現する前処理技術、高分離専用カラム、高度に選択的な濃縮ツールの新規開発により、GCによる簡便な分析システムを実現する。同技術を製造現場に導入することで、高付加価値大吟醸酒の生産性の向上を図り、輸出用新規高級酒(山廃純米大吟醸酒)の開発により世界市場での販路を開拓する
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基盤技術分野 :

バイオ

事業化状況 :
事業化に成功し継続的な取引が続いている

高品質かつ低コストのペプチド・核酸医薬原体の製造を可能にする高性能二段階孔構造精製担体の汎用化のための技術開発

本邦発の高性能多孔質素材であるシリカモノリスを粒状化した新規の二段階孔粒子をさらに発展させ高性能の汎用クロマト精製カラムを開発することにより、ペプチドや核酸医薬原体を高品質かつ低コストに製造する方法を実現する。特徴的な二段階孔構造を有するシリカモノリスは優位な流体力学的特性を発揮するが、その粒子は製造が困難であった。本申請で申請者独自の大型シリカモノリス技術を基盤とし、革新的粒状化技術を開発することで、分離不可能を可能にする大量分取用液体クロマトグラフィーカラムと吸着剤の実現に成功した。
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基盤技術分野 :

バイオ

事業化状況 :
事業化に成功

超高性能吸着物質の形態制御技術及び製品化に向けた応用展開としてのフィルター開発

PCP/MOFの形態を制御し、その最大の弱点である作業性の悪さを改善するため、「各臭気物質に効果のあるPCP/MOFの造粒・成形技術」を開発した。また、Fe-PCP/MOFを水系加工剤化することで、より幅広い用途展開を目指す「Fe-PCP/MOFを用いた乳化分散技術」およびその加工技術も開発した。さらに、これらの技術を効率的に活用する「高機能フィルター技術」の開発にも取り組んだ。 PCP/MOF形態制御技術による製品を、b.caveとして事業化を開始した。
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基盤技術分野 :

複合・新機能材料

事業化状況 :
事業化に成功

高品位電子写真装置用高機能クリーニングブラシの開発

川下の電子写真機製造業の抱える重要な課題は、低コスト化を進めながら高画質、環境配慮の製品を創出することである。前記の課題を解決する上で、感光体の残留トナーを回収するクリーニングブラシは大変重要な部品である。今後トナーがさらに微細化される上で、導電性のブラシ毛を大幅に細径化・高密度化・機能化する必要がある。そこで、本研究開発においては、微粒子固定化技術を応用し、安価で高機能のブラシを開発する
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基盤技術分野 :

複合・新機能材料

事業化状況 :
実用化間近

高発現表層タンパク質を標的とした低コスト迅速分析を可能とする微生物検査の革新

食品流通現場での食品の安全性の検査については現状では結果までに2~3日を要する。しかし現場では、食品が市場に流通するまでに安全性を迅速・簡便に確認できる手法が要求されている。そのため本計画では、多種微生物を一括に検出できる高性能抗体を利用した微生物検出と、ISFET半導体技術を掛け合わせることで、食品中の汚染微生物の有無を0.5日以内に迅速・低コストで測定する技術を開発し、食品流通の安全性を担保する。
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基盤技術分野 :

測定計測

事業化状況 :
研究実施中

次世代高周波半導体デバイスに対応する高性能コンタクトプローブの製品開発

本研究は、情報通信の高速大容量化が急速に進みつつある情報通信システムを支えるため、次世代高周波半導体デバイスの高周波特性を唯一絶対的に評価可能となる半導体検査用高性能コンタクトプローブの製品開発及び事業化を目的とする
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基盤技術分野 :

表面処理

事業化状況 :
研究中止または停滞中