表面処理
液体原料ガスを用いたミニマルファブ用プラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置の開発!
宮城県
株式会社コーテック
2020年3月23日更新
プロジェクトの基本情報
プロジェクト名 | 液体原料ガスを用いたミニマルファブ用プラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置の開発 |
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基盤技術分野 | 表面処理 |
事業化状況 | 研究実施中 |
事業実施年度 | 令和1年度~ |
プロジェクトの詳細
事業概要
低コストな小型装置で構成され、多品種少量生産に適した革新的半導体デバイス製造プロセスとして期待されているミニマルファブシステムに適応する、新規な液体原料ガスを用いたプラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置を実現する。本技術により、現在広く用いられている汎用半導体製造ラインで製造される半導体ICをミニマルファブで圧倒的低コストで生産が可能となり、大きな市場形成を実現する
実用化・事業化の状況
プロジェクトの実施体制
サポイン事業者 | 株式会社コーテック |
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事業管理機関 | 公益財団法人みやぎ産業振興機構 |
サポイン事業者 企業情報
企業名 | 株式会社コーテック(法人番号:6012701003464) |
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本社所在地 | 宮城県 |
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