精密加工
TSV用高速ミニマルエッチング装置の開発
福岡県
株式会社新興精機
2020年3月19日更新
プロジェクトの基本情報
プロジェクト名 | 準共鳴型電子サイクロトロン共鳴技術に基づく小型・高密度プラズマ源の開発と、これをコア技術とする3DIC作製を目的とした高速ミニマルエッチング装置の開発 |
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基盤技術分野 | 精密加工 |
対象となる産業分野 | 半導体、エレクトロニクス |
産業分野でのニーズ対応 | 高効率化(生産性増加)、低コスト化 |
キーワード | ミニマルファブ、エッチング、表面処理、3DIC、プラズマ |
事業化状況 | 研究実施中 |
事業実施年度 | 平成27年度~平成29年度 |
プロジェクトの詳細
事業概要
従来の大型エッチング装置と同等のプラズマ密度を発生させうる準共鳴型電子サイクロトロン共鳴技術に基づく新しい超小型プラズマ源を開発し、シリコン貫通電極の形成を可能にする高速ミニマルエッチング装置を完成させる。多品種少量生産に適した革新的半導体デバイス生産方式として期待されているミニマルファブシステムにおける3次元半導体デバイスの実現に不可欠な貫通配線作製の要素技術をミニマル装置として提供する
開発した技術のポイント
小サイズで高密度プラズマ発生可能な準共鳴型ECRプラズマ源を開発する
(新技術)
単一プロセスエッチングエッチングにより、貫通穴の側壁荒れが無く、電極埋め込みが可能
(新技術のポイント)
準共鳴型ECRプラズマ源や収束補助磁場と組み合わせることにより高速加工が可能
具体的な成果
・高速エッチングシステム開発
‐準共鳴型ECR(電子サイクロトロン共鳴)プラズマ源を小型化し、ミニマル装置に搭載した(電源含む)
‐冷却能力が高くバイアス印加機構・補助磁場発生機構を内蔵した1/2インチウェハ向け基板ステージを開発した
・ミニマル装置化
‐根幹となる機能をミニマル筐体(規格)内に収めた試作機を完成させた
‐ミニマルシリコンウェハを用いた実機試験において、10μm/分以上のエッチング速度を確認した
研究開発成果の利用シーン
多品種少量生産を目的とした新しい半導体デバイス生産システム
実用化・事業化の状況
事業化状況の詳細
現在試作機を用いて装置単体でのレジストパターンによる機能評価や実際のラインプロセスにおける性能評価に向けてプラズマの安定性改善を実施している
提携可能な製品・サービス内容
設計・製作、製品製造、共同研究・共同開発
製品・サービスのPRポイント
・性能を落とすことなくミニマル装置に搭載可能な形状・サイズに修正することに成功した
・基板へのバイアス印加、基板の冷却、基板へのプラズマ引き込み磁場発生の3つに機能を小型基板ステージに組み込んだ電圧・温度・磁場印加ステージを完成させた
・エッチング速度>10μm/minを得ることに成功した
今後の実用化・事業化の見通し
産業技術総合研究所に完成装置を持ち込む事を目標としている
実用化・事業化にあたっての課題
川下企業へ販売促進等
プロジェクトの実施体制
主たる研究等実施機関 | 株式会社新興精機 |
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事業管理機関 | 公益財団法人九州先端科学技術研究所 |
研究等実施機関 | ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社 誠南工業株式会社 熊本県産業技術センター 国立大学法人長崎大学 国立大学法人東北大学 |
アドバイザー | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 パナソニック・スマートファクトリー・ソリューションズ株式会社 |
参考情報
主たる研究等実施機関 企業情報
企業名 | 株式会社新興精機(法人番号:2290001003252 ) |
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事業内容 | 医療、理化学器械器具の製造販売及び修理・材料販売・リース業、一般分析・試薬の販売 |
社員数 | 48 名 |
本社所在地 | 〒812-0054 福岡県福岡市東区馬出6丁目14番17号 |
ホームページ | http://shinkouseiki.co.jp/ |
連絡先窓口 | 大嶺祐平 |
メールアドレス | o-mine@shinkouseiki.co.jp |
電話番号 | 093-603-5680 |
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