研究開発された技術紹介

半導体等の製造においては、更なる微細配線化と多層化が要求されるシリコンウエハの化学機械研磨工程(CMPプロセスと呼ぶ)が重要である。本事業では、CMPプロセスに用いる部材の耐薬品性、耐摩耗性を高めるために、高硬度なアモルファスクロムめっき技術の確立を行い、高性能、低コストの次世代CMPパッドコンディショナーの開発を実現する

アモルファスクロムめっき皮膜を形成させることで、スラリーに対する高い耐腐食性等を付与し、耐久性・寿命を向上
(新技術)
CMPパッドコンディショナーの最表面に耐薬品性、耐摩耗性に優れたアモルファスクロムめっき皮膜を形成させる
(新技術の特徴)
CMPプロセスのコスト低減、スラリーに対する高い耐腐食性等を付与し、耐久性・寿命を向上させる

・所望するめっき物性を得るアモルファスクロムめっきの作製条件を確立した
・アモルファスクロムめっきの硬さ、耐食性について、重要なコマーシャルデータが採取できた
・連続めっき装置では排気ミスト、排水の6価クロム濃度は目標をクリアし、優れた環境対応性を認めた
・量産設備および新型冶具の作製を進め、量産体制を整えることができた
・長時間めっきにおける成分およびpH変動を把握し、その補給方法を確立した
・めっき液を安定化できる新技術の開発に至り、国際特許(PCT)を出願した
・浴成分の自動調整装置を備えたシステムを構築し、連続めっきにおける品質の安定化を達成した
・CMP実装試験で、酸性スラリーの使用下で200時間以上の耐久性能を有することを実証した

特許取得２件

特許第6014835号
「ＣＭＰパッドコンディショナおよび当該ＣＭＰパッドコンディショナの製造方法」
特許第6501280号
「クロムめっき液、電気めっき方法及びクロムめっき液の製造方法」　（台湾で審査請求中）

・開発したアモルファスクロムめっき技術により、滅菌環境の洗浄工程での耐食性を付与することができる。
　医薬用、食品用の省力化機械やロボットへの表面処理として使うことで
　軽量化が求められるシーンにおいて、SUSの素材から軽量だが腐食しやすいアルミ素材への変更可能になる。

・国内、国外から計10社以上の試作の受注をしている。平成27年の年末までに量産めっきラインを完成させ、試作の生産を開始した。
・CMPパッドコンディショナ－のN社の採用決定。受注生産を開始している。
・食品向けロボットアームＫ社の表面処理に採用決定。（次亜塩素酸ソ－ダ、過酸化水素ガスに対して耐食性がある。）年内１０台出荷予定。
　⇒2019年　３０～４０台
・細穴内径へのめっき方法を開発し、ノズルの寿命を延ばす効果を実現。特許出願済み。

・耐薬品性、耐摩耗性に優れたCMPパッドコンディショナー提供によるCMPプロセスのコスト低減、半導体の高機能化、高密度化
・過酸化水素ガスや次亜塩素酸ソーダの腐食性が強い環境でも耐食性を保持することが可能な表面処理
・アルミ素材にも適用でき、軽量化を実現

・アモルファスクロムめっきは、高硬度、耐摩耗性、耐食性に優れており、通常のクロムめっき浴と比較し、浴中の6価クロム濃度も1/8と低いため、次世代の環境対応型クロムめっきとして注目されている
・本プロジェクトの成果はCMPパッドコンディショナー適用に留まらず、新たな機能性めっき膜として様々な用途展開への取り組みを進める予定である
・メーカーからの試作引き合いに対して都度対応している