次世代半導体工場向け局所クリーンシステム装置の設計開発
経営革新支援の手引き

1.企業の概要
 1)会 社 名:株式会社ダイナミックス

 2)資 本 金:10,000千円

 3)従業員数:18名

 4)業種:一般機械器具製造業

 5)売 上 高:408百万円(平成13年3月期)

 6)所 在 地:岩手県北上市

 7)経営革新のパターン:新商品の開発又は生産

 
2.既存事業の概要
当社は昭和61年4月に設立され、コンピュータのシステム・プログラムの開発、 ソフトメカトロ装置の開発・設計製作を主な業務としてきた。各分野の省力化自動機を製作・販売してきており、技術的なノウハウが培われた。これまでは受注受け身型であったが、提案型省力化自動機器会社への変革に取り組んでいる。

3.経営革新の具体的内容
当社は3年間外部の専門家の協力を得て、平成13年5月に次世代の半導体300mmウェハーに対応する装置を開発したが、これに更に付加価値を付けて売り出すために、次世代半導体工場向けの装置を開発することを計画した。現在の半導体工場は、部屋全体をクリーンルーム化している所が多いが、今後は省エネルギータイプの工場に移行することが予想されるため、消費電力節減につながる局所クリーン装置の開発に取り組むこととし、平成13年度に経営革新計画の承認及び補助金の交付決定を受けて事業を開始した。3つの単体装置を架台の中に組み合わせ、クリーン状態にして全体をコントロールする局所クリーンシステムEFEM(equipment front end module)装置を完成させることを目標に、外部の専門家を活用しながら事業を進め、この程完成にこぎつけたところである。分子汚染対策も講じている。今後は、装置を半導体装置メーカーに販売していくこととしており、付加価値の高い商品の売上を増やすことにより、経営革新を進めていくとしている。当社の社長は、「補助金があったおかげで、構想していた装置を形にすることができた。」と語っている。

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